就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產品，
對待每一
做到極致認真
每一個零件
細
致
致
每一組數據
-
智能型HMDS真空系統（JS-HMDS90-AI）
-
潔凈烘箱，百級無塵烘箱
-
氮氣烘箱，精密充氮烘箱
-
LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
-
熱風循環(huán)真空烘箱，高溫熱風真空烤箱
-
HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )
-
智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
-
真空無氧固化爐，高溫無氧烘箱
-
精密烤膠臺，高精度烘膠機
-
超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
最新消息
熱搜：HMDS烘箱 無塵烤箱 無氧烤箱
新 聞 動 態(tài)
NEWS
光刻膠處理中的四大烘烤工藝之——HMDS烤箱預烘烤
來源:
|
作者:上海雋思半導體設備部
|
發(fā)布時間: 2025-05-27
|
135 次瀏覽
|
分享到:
光刻膠處理中的四大烘烤工藝——基板預烘烤、軟烘、曝光后烘烤與硬烘
涂膠前的烘烤
構建牢靠的膠基結合
基板表面處理是光刻膠附著的首要環(huán)節(jié)。當溫度升至100°C時，基材表面吸附的水分子（H?O）開始脫附，這一過程能有效消除“水膜屏障”，避免光刻膠與基板間因水分殘留導致的結合力下降。硅、玻璃、石英等氧化表面的羥基（-OH）會導致親水性表面，降低光刻膠附著力，而溫度進一步升至150°C以上時，羥基（-OH）會發(fā)生熱裂解反應，從而進一步提升光刻膠與基板的結合力。
① 低溫段推薦120°C烘烤3-5分鐘，高溫段需避免過久導致基板氧化加劇。
②使用上海雋思HMDS烤箱HMDS增粘劑預處理可達到類似高溫烘烤的效果。
③ 涂膠應在基板冷卻后立即進行以防止水分再吸附，但需確?；寤謴褪覝匾员ＷC膠膜均勻性。
HMDS烤箱預烘烤工藝
HMDS烤箱將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、碳化硅/硫化鋅/磷化銦/生物晶圓等材料表面后，經烘箱加溫氣相沉積在襯底表面。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)樗?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
可以很好地改善光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕等煩惱。
上一篇：
無
